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真空镀膜设备 Vacuum Equipment

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● 蒸发镀膜设备

● 刻蚀机

● PECVD

● 溅射台

● 离子注入机

● 去胶设备

● 薄膜成型装置

蒸发镀膜设备

产品分类

ei系列批量型高真空系统

ei系列批量型高真空...

ei系列批量型高真空系统

支持各种蒸发源（即EB，RH，EB+RH等）;基材托架与每个过程相一致...

支持各种蒸发源（即EB，RH，E...

支持各种蒸发源（即EB，RH，EB+RH等）;基材托架与每个...

用于研发的高密度等离子刻蚀系统NE-55...

用于研发的高密度等离...

用于研发的高密度等离子刻蚀系统...

配备低压、低电子温度和高密度等离子源;支持从离子蚀刻到自由基蚀刻的各种...

配备低压、低电子温度和高密度等离...

配备低压、低电子温度和高密度等离子源;支持从离子蚀刻到自由基...
Si深刻蚀系统NLD-5700Si

Si深刻蚀系统NLD...

Si深刻蚀系统NLD-5700...

良好的重复性和稳定的过程;对光阻的高选择性（200-500），对CD偏...

良好的重复性和稳定的过程;对光阻...

良好的重复性和稳定的过程;对光阻的高选择性（200-500）...

刻蚀机

PECVD

负载锁定式等离子CVD系统CC-200/...

负载锁定式等离子CV...

负载锁定式等离子CVD系统CC...

27.12MHz的高密度等离子体工艺;支持SiH4（SiO2，SiNx...

27.12MHz的高密度等离子体...

27.12MHz的高密度等离子体工艺;支持SiH4（SiO2...

溅射台

多腔室溅射系统ENTRONTM-EX2 ...

多腔室溅射系统ENT...

多腔室溅射系统ENTRONTM...

各种应用（NVM，Al和铜布线，钛或氮化钛阻挡金属，厚铝和钴或镍自对准...

各种应用（NVM，Al和铜布线，...

各种应用（NVM，Al和铜布线，钛或氮化钛阻挡金属，厚铝和钴...

离子注入机

用于SiC 的高温离子注入机IH-860...

用于SiC 的高温离...

用于SiC 的高温离子注入机I...

持续高温植入;高达700keV;通过软件链式植入;占地面积小;覆盖研发...

持续高温植入;高达700keV;...

持续高温植入;高达700keV;通过软件链式植入;占地面积小...

去胶设备

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薄膜成型装置

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