Si深刻蚀系统NLD-5700Si

      描述：

      该系统能够使用ULVAC原始工艺进行深硅蚀刻，而无须使用博世工艺和Cyro Genics工艺。该系统也可用于石英蚀刻。

      特性：

      良好的重复性和稳定的过程。

      对光阻的高选择性（200-500），对CD偏移的良好控制。

      蚀刻后光滑的侧壁。

      可以蚀刻超精细（<100nm）和高纵横比器件。

      可以对玻璃基板（石英，Pyrex）进行深度蚀刻。

      应用：

      电力行业

      眼镜行业

      金属，机械行业

      研究与开发

      Bio