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配备低压、低电子温度和高密度等离子源;支持从离子蚀刻到自由基蚀刻的各种过程控制;等离子体的密度和均匀性可以通过优化磁场来控制;配置简单，便于维护。
描述：
NE550EX是一种多功能高密度等离子刻蚀系统，特别适用于大学和政府机构作为测试设备。
特性：
配备低压、低电子温度和高密度等离子源。
支持从离子蚀刻到自由基蚀刻的各种过程控制。
等离子体的密度和均匀性可以通过优化磁场来控制。
配置简单，便于维护。
应用：
超高频器件，光学器件（LED，LD）
新一代非易失性存储器
生物芯片和微流体装置
光子晶体
传感器，MEMS（微机电系统）
产品规格：
|
项目 |
规格 |
|
系统配置 |
具有负载锁功能的研发/原型系统 |
|
基材尺寸 |
高达150毫米 |
|
操作压力（Pa） |
0.07至6.7 |
|
基底或基底到基底表面的均匀性 |
最大±3％。 |
|
基材温度控制 |
静电吸盘 |
描述：
NE550EX是一种多功能高密度等离子刻蚀系统，特别适用于大学和政府机构作为测试设备。
特性：
配备低压、低电子温度和高密度等离子源。
支持从离子蚀刻到自由基蚀刻的各种过程控制。
等离子体的密度和均匀性可以通过优化磁场来控制。
配置简单，便于维护。
应用：
超高频器件，光学器件（LED，LD）
新一代非易失性存储器
生物芯片和微流体装置
光子晶体
传感器，MEMS（微机电系统）
产品规格：
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项目 |
规格 |
|
系统配置 |
具有负载锁功能的研发/原型系统 |
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基材尺寸 |
高达150毫米 |
|
操作压力（Pa） |
0.07至6.7 |
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基底或基底到基底表面的均匀性 |
最大±3％。 |
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基材温度控制 |
静电吸盘 |
